기업 개요
Profile
| 회 사 명 | (주)원익머트리얼즈 |
| 설 립 일 | 2006.12.04 |
| 대표 이사 | 한우성 |
| 임직원 수 | 416명(2020.09) |
| 주소 | 충청북도 청주시 청원구 오창읍 과학산업3로 112 |
| 매출액 | 2208억 3980만 (2019.12) |
| 주요 품목 | 반도체, 디스플레이 등 전자재료용 특수가스, 전구체 |
| 홈페이지 | www.wimco.co.kr |
기업 개요
당사는 반도체 및 디스플레이 등에 사용되는 전자재료용 특수가스의 제조를 목적으로 설립된 기업입니다.
창사 후 2003년 PH3 혼합가스를 비롯한 여러 종류의 반도체 공정용 특수가스를 국산화하여 삼성전자 및 SK하이닉스에 공급하기 시작했고, 기존의 DRAM 및 2D NAND 용 특수가스 제조에 대한 기술력을 바탕으로 DRAM 및 3D-NAND 미세화, 고단화에 대응하는 특수 가스도 개발하면서 지속적인 성장의 기회를 이루고 있습니다. 최근 당사는 반도체 및 평판디스플레이 분야에 전구체를 개발하여 본격적인 사업을 추진 중에 있습니다.
주요 연혁
| 날짜 | 내용 |
| 2020.02 | 삼성전자 "Best Partner Award"수상 |
| 2018.12 | 노사문화 우수기업 大賞 "대통령상" 수상 |
| 2016.10 | 제9회 반도체의 날 산업통상자원부 장관 표창 |
| 2016.09 | 삼성전자 DS부문 EHS Best Partner활동 Role Model社 선정 |
| 2016.09 | 삼성전자 "Best Partner Award"수상 |
| 2014.12 | 제51회 무역의날 1억불 수출의 탑 수상 |
| 2011.12 | 코스닥 상장 |
| 2010.03 | NH3 Plant 증설 (5,000ton / 년 생산능력) |
| 2007.06 | VOLTAIX社와 GeH4 Mix Gas 독점공급계약 체결 |
| 2006.12 | (주) 원익머트리얼즈 분할 설립 (물적 분할) |
| 2006.11 | 삼성LCD LIP Gas 7종 공급 |
| 2006.04 | 삼성SDI AM OLED Gas 15종 공급 |
| 2006.03 | 기술연구소 설립 NH3-Y (IN) 삼성 |
| 2005.10 | 5N5 N20 삼성반도체 공급 |
| 2005.06 | 3N5 NO 삼성반도체 공급 |
| 2005.05 | 7N NH3 Plant 720톤 / 년 제 2공장 증설 |
| 2005.03 | 삼성반도체와 제조분석 기술 DP체결 |
| 2005.01 | 삼성반도체 300mm FAB LINE 공급 |
| 2004.05 | NH3Y Cylinder 삼성반도체 공급 |
| 2004.03 | 6N5 NH3 Y Cylinder LED 업계 공급 |
| 2004.01 | NH3 하이닉스반도체 공급 |
| 2003.03 | PH3 혼합가스 삼성반도체 공급 |
| 2002.11 | (주)아토 특수가스 공장 준공 |
주요 제품 및 현황
당사의 주요 제품에는 반도체 및 디스플레이 제조 공정 중 세정(Cleaning), 증착(Deposition) 및 식각(etching) 공정용 특수 가스가 있습니다.
Seminconductor
| 분야 | 제품 |
| CVD / Diffusion | NH3, N2O, NO, C3H6, Si2H6, GeH4 Mix |
| Etching / Cleaning | C4F8, SF6, F2 Mix, CF4, CH2F2, SiCl4 |
| Implant / Doping | BCl3 Mix, BF3, PH3 Mix, C2H4 |
| Excimer laser | 3.5% Ar / 10ppm Xe / Ne, 0.95% F2 / 3.5% Ar / Ne, 1.25% Kr / Ne, 0.95% F2 / 1.25% Kr / Ne |
Display
| 분야 | 제품 |
| CVD / Diffusion | NH3, N2O, Cl2 |
| Etching / Cleaning | BCl3, C2HF5, CF4, CO2, SiCl4 |
| Implant / Doping | SF6, BF3, PH3 Mix, C2H4 |
| Excimer laser | Xe 4.5%, 5% HCl Mix, 100ppm H2/Ne, O2 / Ne Mix, Ne |
Precursor(전구체)
당사는 반도체용 박막 증착 소재에 대한 지속적인 연구개발을 통해 Logic, DRAM, V-NAND에 적용되는 프리커서를 연구 개발하고 있습니다. 반도체 기술의 빠른 변화에 대응하여 합성, 증착, 시뮬레이션 등에 대한 미래 핵심 기술을 확보하고 내재화하고 있습니다.
Si Precursors for CVD / ALD
실리콘 기반의 재료는 반도체 제조에 전반적으로 사용됩니다. 당사는 제조 공정 중 화학 기상 증착 CVD, Chemical Vapor Deposition), 원자 층 증착 (ALD, Atomic Layer Deposition) 공정을 위한 다양한 전구체를 공급하고 있습니다. 최근에는 HCDS(Hexachlorodisilane) 합성을 통한 3D-NAND용 전구체를 개발, 공급하고 있습니다.
Metal Precursors for CVD / ALD
III-VI Precursors for CVD / ALD
주요 제품 매출 현황
당사의 제품에는 각 공정별 여러가지가 있지만 증착공정에 사용되는 N2O 등 9개 제품의 매출 비중이 78.5%를 차지하고 있습니다.
신규(예정) 사업
당사는 반도체의 미세화, 고단화 등에 따른 수요 증가에 대응하기 위하여 HCDS 합성기술을 통한 Si Base Precursor의 국산화를 추진하고 있습니다. 현재 precursor 생산설비 및 연구동 투자는 완료되었습니다.
고객사 현황
당사의 주력 사업인 반도체 및 디스플레이 제조용 특수 가스 의 수요처는 크게 DRAM 및 NAND Flash 등의 메모리 반도체를 생산하는 삼성전자, SK하이닉스 등의 종합 반도체 제조사를 중심으로 삼성디스플레이, 동우화인켐 등 디스플레이 및 LED 제조사로 구분됩니다.
재무 정보
손익계산서 - 실적
당사의 3분기 누적 매출은 2074억 원으로 전년 동기 대비 27.8% 증가했고 영업이익은 26.73% 증가했습니다.
주요 재무 지표
2019년 반도체 경기의 불황으로 주춤했으나 2020년 분기별 실적은 점차 상승세를 보이고 있습니다. 영업이익률도 지난 2018년 수준인 18%대를 기록했습니다.
컨센서스
컨센서스에 의하면 당사의 매출은 2020년 부터 향후 3년간 매년 최고 실적을 경신할 것으로 추정했습니다.
이에 따른 영업이익률도 개선이 기대됩니다.
주가정보
1월 20일 코스닥 시장이 반등하면서 당사의 주가도 5.34% 오른 35,500원에 상승 마감했습니다.
외국인 지분율은 16.52%, 국민연금이 9.98%의 지분을 보유하고 있습니다.
시가총액 4,476억 원으로 코스닥 시총 상위 182위 종목입니다.
최근 수급에서는 기관의 차익실현 매물을 외국인과 개인이 받아내는 모습입니다. 지난 한 달 간의 일봉을 보면 34,000~37,000 원 사이에서 횡보하는 모습입니다. 개인적으로는 최근 변동성이 심한 장세라서 내일 다시 상승분을 반납하면서 횡보할지 지켜보면서 대응할 생각입니다. 중기적 관점에서는 조정 시 저가 매수 전략을 취해볼 예정입니다.
주식 전망 및 투자 전략
투자 포인트
1. 글로벌 반도체 제조 업체인 삼성전자, SK하이닉스를 비롯한 DB하이텍, 삼성디스플레이 등의 고객사 확보를 통한 안정적 매출
2. 반도체 미세화, NAND flash고단화 등에 따른 수요 증가: 당사 주요 제품의 수요는 DRAM과 NAND용임
3. 삼성전자, SK하이닉스의 DRAM 세계시장 점유율69.5%, NAND 세계시장 점유율 44.6%
4. 삼성전자, SK하이닉스의 2021년 CAPEX는 사상최대
5. 원익머트리얼즈 2020~2022년 꾸준한 성장 예상
6. NH3 개질 수소 발생 기술 보유
참고 자료
하나금투 “원익머트리얼즈, 최근 주가 상승… 수소 추출 기술 기대감 때문” - 이투데이
하나금투 “원익머트리얼즈, 최근 주가 상승…수소 추출 기술 기대감 때문”
▲자료제공=하나금융투자하나금융투자는 원익머트리얼즈의 최근 주가 상승에 대해 3D-NAND 고단화에 대한 인식과 NH3 개질 수소 발생 기술에 대한 중장
www.etoday.co.kr
오늘도 이 글을 읽으시는 모든 분들의 성공투자를 기원합니다.
*** 본 내용은 투자에 대한 참고자료로서 투자에 대한 최종적인 책임은 투자자 본인에게 있습니다 ***
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