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주식투자 기본 상식

기업 분석 및 주가 전망 - 이엔에프테크놀로지 (102710)

by etrue 2021. 1. 21.
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기업 개요

Profile

회 사 명 (주)이엔에프테크놀로지
설 립 일 2000.05.01
대표 이사 지용석, 김정수
임직원 수 507명 (2020.09)
주소 경기도 용인시 기흥구 탑실로 35번길 14
매출액 4810억 1321만 (2019.12)
주요 품목 반도체 및 디스플레이 제조용 케미칼
홈페이지 www.enftech.com

기업 개요 

이엔에프테크놀로지는 반도체 및 디스플레이 제조 공정에 사용되는 프로세스케미컬의 제조 및 공급을 목적으로 2000년 설립된 기업입니다. 이듬해 포토레지스트용 원료 합성 및 프로세스 케미컬 공장을 준공하면서 신너(Thinner) 재생 사업 및 ArF 포토 레지스트의 원료를 공급하면서 성장의 기반을 다졌고, 컬러페이스트 양산 후 아산 제2 공장을 준공하면서 본격적인 성장 동력을 확보하였습니다. 이후 반도체 핵심소재인 고순도 불화수소를 제조하는 팸테크놀로지의 설립과 해외 법인을 설립하면서 사업 다각화를 통한 고속성장의 기틀을 마련했습니다.

종속회사 현황

당사는 화학용 액체 소재를 전문으로 제조하는 한국알콜산업(주)의 자회사로써 중국과 미국에 2개의 종속회사를 보유하고 있으며, 중국에는 우한, 광저우, 주하이 그리고 미국 Kyle에 종속 기업을 두고 있습니다.

주요 연혁

날짜 내용
2016.11 2억불 수출의 탑
2014.05 중소기업청 선정 월드클래스 300
2013.02 중국 ENF(Guangzhou) Technology 설립
2010.11 중국 ENF(Wuhan) Technology 설립
2010.06 ENF China Holdings 설립
2010.04 팸테크놀로지 설립
2009.05 코스닥 상장
2008.12 아산공장(제 2공장) 준공
2007.09 컬러페이스트 본격 양산 공급
2007.08 폐 유기용제의 처리방법 특허 등록
2005.09 신기술 인증 (ArF Monomer)
2002.06 ArF 포토레지스트용 원료 납품
2001.12 신너 재생 사업 출범
2001.12 프로세스 케미컬 공장 준공
2001.06 포토레지스트용 원료 합성 공장 준공
2000.05 회사 설립

주요 제품 및 현황

당사의 주요 사업 부문에는 프로세스케미컬, 화인케미컬 및 컬러페이스트 등이 있습니다.

프로세스 케미컬 (Process Chemical)

프로세스 케미컬은 반도체 및 디스플레이 제조공정에 사용되는 필수 화학소재로써 원료의 정제 기술, 재생 기술, 배합 기술 및 계면활성제 응용 기술을 기반으로 합니다.

신너(Thinner)

신너(Thinner)

신너는 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 웨이퍼의 가장자리 부분이나 포토레지스트 분사 시 노즐의 불필요한 포토레지스트를 제거하여 정상적인 공정이 진행되도록 해주는 기본재료입니다. 당사는 국내 최초로 신너 재생 기술을 개발 적용하여 국내 신너 시장에서 독보적인 입지를 구축하고 있습니다.

박리액(Stripper)

박리액

박리액은 반도체 및 디스플레이 제조 공정 중 포토레지스트를 용해해서 제거하는 용도이며, 건식 식각 공정에서 폴리머를 제거하는 용도로도 사용됩니다. 당사는 2018년 유해물질을 배제한 박리액인 친환경 포토레지스트 박리액을 자체 개발하여 공급하고 있습니다.

식각액(Etchant) - BOE 식각 분야 국내 1위

식각액

당사의 식각액은 습식 식각 공정에 사용됩니다. 반도체의 실리콘 산화막이나 질화막의 제거, 디스플레이 제조 공정 중 금속막을 제거하여 패턴을 만드는 공정에 사용됩니다. 당사의 BOE(Buffered Oxide Etchant) 분야에서는 국내 1위 기업으로 2014년 개발을 시작하여 2019년부터 공급을 시작한 것으로 파악됩니다.

 

또한 일본의 대 한국 수출 제재에 따른 국산화의 일환으로 반도체의 핵심 소재인 불화수소에 대처하면서 고순도 불화수소에 대한 비중을 확대하고 있습니다.  

불화수소는 반도체 제조 공정 중 웨이퍼의 산화 불순물을 제거하거나, 식각 공정에 사용되는 핵심 소재로써 특히 EUV 공정과 같이 미세화, 고단화 되어가는 반도체 소자의 에칭 공정에는 필수적인 소재입니다.

현상액(Developer)

현상액

현상액은 반도체 및 디스플레이 공정 중 노광된 포토레지스트의 패턴을 형성하는 제품입니다.

세정액(Cleaner)

세정액

세정액은 반도체 및 디스플레이 공정 중 발생하는 파티클이나 오염물질 등을 제거하는 역할을 합니다. 반도체 소자의 미세화, 고집적화에 필수적인 역할을 하는 소재입니다.


화인 케미컬 (Fine Chemical)

화인 케미컬

당사는 정밀 화학 분야의 사업으로 반도체 및 디스플레이 공정 중 포토 공정에 사용되는 감광액(포토레지스트)용 핵심 원료를 생산하고 있습니다. 특히 반도체 미세화에 따른 포토레지스트의 사용량 증가에 따라 모노머(Monomer), 폴리머(Polymer), 광산발생제(Photo Acid Generator) 등의 시장규모가 커질 것을 전망합니다.


컬러페이스트 (Color Paste)

컬러페이스트

컬러페이스트는 디스플레이용 컬러 포토레지스트의 핵심 원료로써 컬러 필터용 안료에 분산제 등을 첨가하여 분산처리를 거쳐 제조됩니다. TFT-LCD가 컬러를 표현하기 위해 CFPR(Color Filter Photo Resist)을 사용하여 코팅, 노광 및 현상의 과정을 반복함으로써 삼원색인 RGB를 제조하게 되는데, 이때 CFPR에 색 특성을 나타나게 해주는 물질이 컬러 페이스트이며, 색표현의 품질을 결정하는 중요한 소재입니다.

주요 제품 매출 및 생산 현황

매출 현황

당사의 매출 구조는 프로세스 케미컬과 화인 케미컬 제품이 반도체, 디스플레이 분야에 섞여있기 때문에 별도 분리된 매출 구조는 공개하지 않은 듯합니다. 전반적으로 내수와 수출의 비중이 70:30 정도입니다. 

국내 공장 가동률(2020년 3분기)

국내 생산 라인은 울산, 아산 및 천안에 있으며 프로세스 케미컬의 가동률은 54.2%, 화인 케미컬은 29.5%입니다. 공장 가동률은 낮은 편이지만, 당사는 계속되는 연구 개발로 인해 선제적 양산 체제를 준비하는 차원으로 여유 있는 생산라인을 확보한다고 밝혔습니다..

유형자산의 현황

국내 및 중국의 주요 사무소(공장)에 대한 유형자산 증감 내역입니다. 2020년 3분기에는 건물, 구축물 및 기계장치에 대한 감가상각이 89억 원입니다.

 


재무 정보

손익계산서 - 실적

이엔에프테크놀로지 2020년 3분기 실적

당사의 2020년 3분기 누적 기준 매출액은 3686억 원으로 전년 동기 대비 3.1%, 3분기 누적 영업이익은 608억 원으로 33% 증가했습니다. 다만 3분기 영업이익은 추정치인 235억 원보다 부진했는데, 주요 원인은 원달러 환율의 하락으로 인한 이익 감소였습니다. 소재 업종 내에서도 당사는 환율 민감도가 다소 높은 편입니다.

주요 재무 지표

주요 재무 지표

매출액은 큰 폭은 아니라도 점진적인 증가 추세를 보여 오히려 안정적인 성장으로 보입니다.

특히 2020년 3분기까지의 분기별 영업이익률이 15%를 넘게 기록한 점이 눈에 뜨입니다.

 

컨센서스

컨센서스

2020~2022년 3년간 매출액은 2~3%대로 큰 성장은 기대하기 어렵습니다. 컨센서스 기준 2021년 EPS가 4,208원, PER은 10.4배입니다. 

주가정보

이엔에프테크놀로지 주가정보(2021.01.21 장종료)

오늘 당사의 주가가 큰 폭으로 반등하면서 48,200원에 거래를 마쳤습니다. 외국인 지분율은 11.45%, 시가 총액 6,872억 원으로 코스닥 103위 종목입니다.

이엔에프테크놀로지 일봉 차트

1월 21일 개인 매수세에 힘입어 장대 양봉이 나오면서 9.92% 상승 마감했습니다.

최근 한 달간의 수급에서도 개인의 꾸준한 매수가 유입되는 와중에 기관과 외국인은 매도 우위를 보이는 종목입니다. 밸류에이션으로 보면 동종 반도체/디스플레이 소재 업종에서 조금 저평가받는 종목이지만 적정 주가는 44,000~ 52,000 원 사이로 보고 투자에 임할 생각입니다.


지적 재산권

당사는 2020년 3분기 말 현재 51건의 특허가 등록되어 있고, 식각액, 포토 레지스트 관련, 실란트 등에 대한 100여 건의 특허 가 출원 중인 것으로 파악됩니다.


주식 전망 및 투자 전략

투자 포인트

1. 고순도 불화수소(HF) 생산 업체 , 초고순도 불화수소 연구 개발 중

2. 불화수소 기반의 BOE 식각액 국내 1위 기업

3. 반도체 및 디스플레이 공정용 폐액의 재사용 기술로 다양한 소재의 원가 경쟁력 확보

4. 독보적인 반도체 포토레지스트용 원재료의 수요 증가

5. 반도체 삼성전자 평택 공장 라인 증설, SK하이닉스 M16라인 가동 본격화에 따른 매출 증대

6. LG디스플레이 가동률 증가 및 중국 광저우 OLED 가동 개시

7. 삼성디스플레이, CSOT 등 주요 고객사 CAPA 증가(22%)에 따른 수혜

 

EUV 공정에서 사용되는 불화수소는 초고순도(99.999999999% 또는 99.9999999999%) 불화수소가 필요한데, 현재 당사를 포함한 국내 업체들의 순도는 99.99% 정도로 알려져 있습니다. 초고순도 불화수소의 경우 아직도 일본 기업에 의존을 해야 하는 상황으로써, 당사도 중앙연구소를 통해 지속적인 연구를 하는 것으로 알려졌습니다. 아무튼 삼성전자의 EUV 라인이 가동되는 2021년 후반기가 되면 포토레지스트뿐만 아니라 초고순도 불화수소가 필수적이기 때문에 이에 대한 개발이 주목되고 있습니다. EUV 공정 관련 매출 인식은 2022년 상반기부터 가능할 것으로 보입니다.


참고 자료


오늘도 이 글을 읽으시는 모든 분들의 성공투자를 기원합니다.

 

 

*** 본 내용은 투자에 대한 참고자료로서 투자에 대한 최종적인 책임은 투자자 본인에게 있습니다 *** 

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