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기업 분석 및 전망

에스앤에스텍 - 주가 전망 및 실적 분석 (2021년 3분기)

by etrue 2021. 12. 2.
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(주)에스앤에스텍 로고(CI)

반도체 및 디스플레이 공정에 필수적인 포토마스크용 블랭크 마스크를 전문으로 하는 기업으로 EUV 펠리클 국산화를 선도하는 기업인 (주)에스앤에스텍의 2021년 3분기 실적 분석 및 주가 전망을 공유합니다.

당사의 자세한 사업 내역과 이전 실적은 아래 링크를 참조하시기 바랍니다.

2021년 상반기 실적 분석 및 주가 전망

 

에스앤에스텍 - 주가 전망 및 실적 분석 (2021년 상반기)

반도체 및 디스플레이 공정에서 포토마스크용 블랭크마스크를 공급하는 기업으로 EUV 펠리클의 국산화를 추진 중인 (주)에스앤에스텍의 2021년 2분기 실적 분석 및 최근 사업 현황의 점검을 통한

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2021년 1분기 실적 분석 및 주가 전망

 

에스앤에스텍 - 주가 전망 및 실적 분석

반도체 포토마스크용 블랭크 마스크 및 EUV 펠리클(Pellicle)의 국산화를 선도하는 기업인 (주)에스앤에스텍의 2021년 1분기 실적 분석과 최근 사업 현황을 통한 주가 전망을 공유합니다. 당사의 자

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2020년도 결산 실적 및 기업 분석

 

에스앤에스텍 (101490) - 주가 전망 및 실적 분석

반도체 및 디스플레이 공정의 핵심 중 핵심인 포토마스크에 사용되는 블랭크마스크의 국산화 기업 그리고 EUV 펠리클 국산화를 선도하는 (주)에스앤에스텍의 2020년 실적을 살펴보고, 최근 사업

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2020년 3분기 실적 분석 및 주가 전망

 

기업 분석 및 주가 전망 - 에스앤에스텍 (101490)

국내 유일 블랭크 마스크 공급업체, EUV 관련주 에스앤에스텍의 기업 분석 및 주가 전망에 대한 공유입니다. 기업 개요 Profile 회 사 명 (주)에스앤에스텍 설 립 일 2001.02.22 대표 이사 정수홍 임직

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실적 분석

주요 사업 부문 및 제품의 매출 현황

에스앤에스텍 주요 사업 부문 및 주가 전망 (2021년 3분기)
에스앤에스텍 주요 사업부문 및 주가 전망

당사는 반도체 및 평판 디스플레이(FPD) 제조 공정 중 포토마스크 제조를 위해 적용되는 블랭크 마스크를 제조, 공급하고 있습니다. 기타 관련 산업의 연관 기술과 미래 신성장 동력의 확보를 위해 투자 검토 및 수행을 담당하는 에스앤에스인베스트먼트를 종속회사로 영위하고 있습니다. 

에스앤에스텍 실적 구분 현황 (2021년 3분기)
에스앤에스텍 실적 구분 현황 (2021년 3분기)

지난 3분기 실적에서 수출은 256억 원으로 전체 매출의 35.89%를 차지하고 있습니다.

손익계산서 - 실적

에스앤에스텍 실적 (2021년 3분기)
에스앤에스텍 실적 (2021년 3분기)

지난 3분기 당사의 실적은 매출액 240억 원으로 전년 동기 대비 18.2% 증가했고, 영업이익은 21억 원으로 13.3% 증가, 분기 순이익은 23억 원으로 32% 증가했습니다. 누적 기준으로는 매출액 713억 원으로 4.5% 증가했으며, 영업이익은 80억 원으로 16.5% 감소, 당기순이익은 90억 원으로 1.5% 증가했습니다. 누적 기준 매출액은 소폭 증가했으나, 연구개발비 등 판관비 증가로 인해 이익 규모는 감소하였습니다. 

추정 실적 컨센서스

에스앤에스텍 컨센서스 (2021년 3분기)
에스앤에스텍 컨센서스 (2021년 3분기)

올해 당사의 예상실적은 매출액 1,009억 원으로 전년 동기 대비 15.5% 증가하고, 영업이익은 131억 원으로 19.1% 증가할 것으로 추정했습니다. 2022년은 매출액 1,210억 원으로 2021년 대비 19.9% 증가하고, 영업이익은 165억 원으로 26% 증가할 것으로 전망했습니다. 블랭크 마스크 국산화에 따른 수혜, 고객사 EUV 공정 도입 및 확대 전망에 따른 당사의 110억 원 규모 시설 투자 등 당사의 중장기적 실적 전망도 꾸준한 성장을 할 것으로 보고 있습니다.

현금흐름표

에스앤에스텍 현금흐름표 (2021년 3분기)
에스앤에스텍 현금흐름표 (2021년 3분기)

지난 3분기 영업활동 현금흐름에서는 195억 원의 현금이 유입되었으며, 투자활동에서는 유형자산의 취득으로 139억 원이 유출되었으나, 단기금융상품의 처분 등으로 총 140억 원의 현금이 유입되었습니다. 재무활동에서는 차입금의 차입으로 자금을 조달하고, 당기 부채를 상환하였으며 배당금을 지급하면서 14억 원의 현금이 유출되었습니다. 2021년 3분기 말 기준 현금성 자산은 전년 동기 말 대비 199억 원이 증가한 626억 원을 확보하고 있습니다.

재무제표, 재무 안정성 비율

에스앤에스텍 재무상태표 (2021년 3분기)
에스앤에스텍 재무상태표 (2021년 3분기)

2021년 3분기 말 현재 자산총계는 전기 말보다 6.7%(125억) 늘어난 1,985억 원으로 현금성 자산 및 유형자산의 증가에 기인합니다. 부채총계는 23.2%(50억) 늘어난 265억 원으로 단기매입채무 및 단기 차입금이 소폭 증가했습니다. 자본에서는 당기순이익의 증가 등으로 75억 원이 늘어난 1,720억 원을 기록했습니다. 

에스앤에스텍 재무 안정성 비율 (2021년 3분기)
에스앤에스텍 재무 안정성 비율 (2021년 3분기)

지난 3분기 말 기준 재무 안정성 비율에서는 유동비율 503.2%, 부채비율 15.4%, 자기자본비율 86.6%, 자본유보율 1,523.4%를 기록하면서 전반적으로 안정적인 재무상태를 유지하고 있습니다.


최근 사업 및 연구 개발 현황

당사는 지난 3분기 매출액의 5.6%인 40억 원 규모의 비용을 투입하면서 EUV 공정용 블랭크 마스크 및 펠리클 기술 개발과 양산에 대한 연구개발을 지속하고 있습니다.

신규 시설 투자 현황 - 투과율 90% EUV용 펠리클 양산 임박

에스앤에스텍 설비 투자 현황
에스앤에스텍 설비 투자 현황

당사의 3분기 현재 설비 투자에서는 지난해 삼성 전자로부터 유상증자에 따른 659억 원 규모의 투자를 받으면서 EUV용 블랭크 마스크 및 펠리클 기술 개발과 양산을 위한 신규 장비 및 부동산 투자를 실시 후 완료되었으며,  지난 3분기 중 EUV용 블랭크 마스크 및 펠리클 기술 개발과 양산을 위한 신규 장비 투자를 시작하여 2022년 10월 말 완료 예정에 있습니다. 

또한 지난 10월 말에는 산업은행으로부터 550억 원의 시설자금 한도 승인을 받으면서 EUV 펠리클 양산 시설과 EUV 블랭크 마스크 생산을 위한 장비를 추가로 확보할 예정입니다.

당사는 최근 투과율 90%인 반도체 극자외선(EUV) 펠리클을 개발한 뒤 양산을 위한 품질 테스트가 진행 중인 것으로 밝혔습니다.


엔스앤에스텍(101490) 주가 전망 및 주식 시세, 목표 주가

에스앤에스텍 주가 정보 (2021.12.01)
에스앤에스텍 주가 정보 (2021.12.01)

12월 1일 장 종료 기준 당사의 주가는 전일보다 3.48% 오른 32,700원에 거래를 마감했습니다. 외국인 비중은 4.5%이며, 시가총액 7,015억 원으로 코스닥 시총 기준 114위 종목입니다.

에스앤에스텍 주식 시세 (일봉: 2021.01 ~ 2021.12)
에스앤에스텍 주식 시세 (일봉: 2021.01 ~ 2021.12)

당사의 주가는 지난 8월 시장 변동성에 따른 조정 이후 완만한 상승세를 보였으나 11월 하순 들어서면서 외국인과 기관의 대량 매도에 따른 하락세를 보이면서 최근 주가는 3만 원대 초반에서 거래되고 있습니다. 단기적으로는 3~4만 원 사이 박스권 움직임을 예상하며, 중장기적으로는 주 고객사의 EUV 공정 도입 및 확대에 따른 실적 가시화에 영향을 받을 것으로 예상됩니다. 따라서 목표주가는 추가 조정 시 3만 원을 지지하는지 확인 후 진입하고, 4만 원 부근에서 매도하는 단기적 전략을 생각합니다.


투자 포인트

1. 국내 유일의 반도체 및 디스플레이 포토마스크용 블랭크 마스크 국산화 및 공급 기업

2. 삼성전자의 제삼자 배정 유상증자를 통한 659억 원 규모의 투자를 기반으로 EUV용 펠리클 및 블랭크 마스크 개발

3. 삼성전자의 EUV 공정 도입 및 확대 방침에 따른 당사의 중장기적 동반 성장 전망

4. 삼성전자 비메모리 확대, 사상 최대 투자에 따른 수혜


최근 주요 이슈, 공시

에스앤에스텍, 차세대 EUV '하이 NA'용 블랭크 마스크 개발한다 - 전자신문

 

에스앤에스텍, 차세대 EUV '하이 NA'용 블랭크 마스크 개발한다

에스앤에스텍이 차세대 반도체 노광장비로 주목받는 하이 NA 극자외선(EUV)용 블랭크 마스크를 개발한다. 하이 NA는 ASML이 개발 중인 노광장비로 인텔이 세계 최초로 도입하겠다고 밝혀 관심을 모

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에스앤에스텍, 반도체 소재 증설 550억 승인받아 - 이데일리

 

에스앤에스텍, 반도체 소재 증설 550억 승인 받아

에스앤에스텍(101490)이 산업은행에서 550억원 시설자금 한도 승인을 받았다고 27일 밝혔다.에스앤에스텍 측은 “정부 지정 ‘소부장(소재·부품·장비) 강소기업’인 에스앤에스텍은 산업은행에

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[특징주]에스앤에스텍, 국내 최초 '투과율 90%' EUV 펠리클 개발 성공 소식에 강세 - 파이낸셜뉴스

 

[특징주]에스앤에스텍, 국내 최초 '투과율 90%' EUV 펠리클 개발 성공 소식에 강세

[파이낸셜뉴스]블랭크마스크 생산업체 에스앤에스텍이 투과율 90%의 반도체 극자외선(EUV) 공정용 펠리클 개발에 국내 최초로 성공했다는 소식에 강세다. 현재 투과율 90%의 EUV 펠리클은 네덜란드

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오늘도 이 글을 읽으시는 모든 분들의 성공투자를 기원합니다.

 

*** 본 내용은 투자에 대한 참고자료로서 투자에 대한 최종적인 책임은 투자자 본인에게 있습니다 ***

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